日本SAMCO株式会社（以下简称SAMCO）,1979年在日本京都创立，作为一家半导体设备制造商，该公司专注于CVD，干法刻蚀，干洗等设备的开发制造，以及材料加工和器件工艺的创新。公司名称就是Semiconductor And Materials Company（半导体设备及材料公司）的英文首字母简化而来。 创立初期，在京都一幢楼的车库里，SAMCO开发了第一台非晶硅太阳能电池研究用的等离子化学气相沉淀装置（PECVD）。发展至今，SAMCO已经成长为一个价值数百万美元的全球品牌，2001年5月30日在日本证交所上市，2014年1月9日在东京证券交易所第一部上市。 目前SAMCO销售总额的70％是高亮度LED应用和各种激光应用的光电子领域，以及功率器件和SAW滤波器的电子零件领域的设备销售。 同时也致力于MEMS器件，以及氮化镓（GaN）和碳化硅（SiC）的设备开发。 
自1979年成立以来，SAMCO已开发出了丰富的干法刻蚀技术，该公司的等离子刻蚀机(RIE, ICP-RIE & Si DRIE)包括直开式（open-load），真空搬送式（load-lock），装片式（cassette）等多种类型，多样化的系统满足了全球半导体客户各种研发和生产需求。其中，ICP刻蚀系统采用了最新的电感耦合等离子技术，可以为下一代器件提供高可靠性和高均匀性的刻蚀工艺。
在化合物半导体和硅器件的制造领域， SAMCO的PECVD系统可以沉积高质量的硅基薄膜(SiO2, SiNx, SiOxNy, a-Si:H)。阳极PECVD系统用于高质量的薄膜沉积，阴极PECVD系统可实现高速率的沉积，针对半导体客户不同的工艺要求，分别有相对应的机型可供选择。
2018年，Samco公司与吉永商事株式会社达成中国地区业务合作意向，将利用吉永商事株式会社在中国化合物半导体，碳化硅功率器件及MicroLED方面的广泛客户关系，共同开拓并服务中国半导体市场。 | 
