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企业动态
日本合作伙伴风采(二十二)-日本SAMCO株式会社
发布日期:10/16/2019 :01:04    点击数:1529

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      日本SAMCO株式会社(以下简称SAMCO),1979年在日本京都创立,作为一家半导体设备制造商,该公司专注于CVD,干法刻蚀,干洗等设备的开发制造,以及材料加工和器件工艺的创新。公司名称就是Semiconductor And Materials Company(半导体设备及材料公司)的英文首字母简化而来。

 

      创立初期,在京都一幢楼的车库里,SAMCO开发了第一台非晶硅太阳能电池研究用的等离子化学气相沉淀装置(PECVD)。发展至今,SAMCO已经成长为一个价值数百万美元的全球品牌,2001年5月30日在日本证交所上市,2014年1月9日在东京证券交易所第一部上市。

 

      目前SAMCO销售总额的70%是高亮度LED应用和各种激光应用的光电子领域,以及功率器件和SAW滤波器的电子零件领域的设备销售。 同时也致力于MEMS器件,以及氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)的设备开发。

 

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      自1979年成立以来,SAMCO已开发出了丰富的干法刻蚀技术,该公司的等离子刻蚀机(RIE, ICP-RIE & Si DRIE)包括直开式(open-load),真空搬送式(load-lock),装片式(cassette)等多种类型,多样化的系统满足了全球半导体客户各种研发和生产需求。其中,ICP刻蚀系统采用了最新的电感耦合等离子技术,可以为下一代器件提供高可靠性和高均匀性的刻蚀工艺。


      在化合物半导体和硅器件的制造领域, SAMCO的PECVD系统可以沉积高质量的硅基薄膜(SiO2, SiNx, SiOxNy, a-Si:H)。阳极PECVD系统用于高质量的薄膜沉积,阴极PECVD系统可实现高速率的沉积,针对半导体客户不同的工艺要求,分别有相对应的机型可供选择。


 

      2018年,Samco公司与吉永商事株式会社达成中国地区业务合作意向,将利用吉永商事株式会社在中国化合物半导体,碳化硅功率器件及MicroLED方面的广泛客户关系,共同开拓并服务中国半导体市场。

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