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2016年6月7日,河北半导体研究所的研磨抛光设备进入安装调试阶段,这套设备主要用于GaAs/InP晶圆背面减薄工艺制程。得益于设备订购之前的充分技术沟通以及制造商的卓越技术与品质,设备三天内即完成了安装调试及验收。 我社提供的研磨抛光设备今年销售势头火爆,目前已成为业界新投资化合物半导体产线的标杆。设备具有稳定性能好,精度高,生产成本低,操作维护方便等优点,是化合物晶圆背面减薄的首选!
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