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InP/GaAs晶圆背面研磨抛光系统
设备总体描述:该系统主要用于2-4inch InP/GaAs晶圆的背面减薄。
上蜡机:将InP晶圆正面粘贴在高平坦度陶瓷盘上,用于后段单面研磨及抛光。
研磨机:用来初步减薄InP 晶圆背面,尽量减少背面损伤层。
开槽机:用于开研磨盘沟槽,保证研磨品质稳定。
抛光机:将研磨后的InP晶圆进行抛光,消除背面损伤层。
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