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【SAMCO】紫外线臭氧清洗

Samco的紫外线臭氧清洗机采用紫外线照射、臭氧和阶段性加热的独特组合,温和而有效地去除各种基板上的有机材料,包括硅、玻璃、化合物半导体(GaN、SiC、GaAs和InP)、蓝宝石、陶瓷等。今天,我们的产品线包括紧凑型台式和盒式系统,适用于研发和量产客户。

型号UV-1UV-300HUV-300HC
外形1651661521169200.png1651661587617290.png1651661877427520.png
概要UV-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热独特地结合在一起,温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体(GaN、GaAs、InP、SiC)、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。UV-300H是一款高性能的紧凑型紫外线臭氧清洗机。通过滑动抽屉将基材装入系统中。紫外线照射、高浓度臭氧和阶段性加热的独特组合,可温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体(GaN、SiC、GaAs、InP)、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。UV-300HC是一款高性能的盒式装载UV臭氧清洗机,用于生产。这个行业领先的系统有2个装载盒,可以达到200-300nm/min的高灰化率。该系统利用紫外线照射、高浓度臭氧和可控阶段加热的独特组合,温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体(GaN、SiC、GaAs和InP)、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。
特点

最大加工尺寸为ø100mm。

加热阶段加快了清洗速度,实现了宽广的工艺温度范围。

紧凑,使用很小的台式空间

简单,在大气压下操作--不需要真空系统。

柔软、完全干燥的工艺不会对基材造成电损伤。

盖子联锁保证了当盖子打开时,系统无法运行。

臭氧催化剂装置,用于将废气中的臭氧浓度降低到安全水平。

安全性能自动N₂净化循环、加热级保险丝保护、臭氧洗涤器和紧急停止开关。

最大加工尺寸为ø300mm。

200 - 300 nm/min的高灰化率。

加热阶段加快了清洗速度,实现了宽广的工艺温度范围。

通过调整平台和石英扩散板之间的间隙,可以提高基板的均匀性。

紧凑,使用很小的洁净室空间

简单,在大气压下操作--不需要真空系统。

柔软、完全干燥的工艺不会对基材造成电损伤。

抽屉联锁保证了当抽屉打开时系统无法工作。

内置臭氧催化剂装置,可将废气中的臭氧浓度降低到安全水平。

最大加工尺寸为ø240 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)

200 - 300 nm/min的高灰化率。

加热阶段加快了清洗速度,实现了宽广的工艺温度范围。

通过调整平台和石英扩散板之间的间隙,可以提高基板的均匀性。

紧凑,使用很小的洁净室空间

简单,在大气压下操作--不需要真空系统。

柔软、完全干燥的工艺不会对基材造成电损伤。

内置臭氧催化剂装置,可将废气中的臭氧浓度降低到安全水平。

应用

塑料包装和引线框架的表面清洁。

复合半导体(GaN、GaAs、InP和SiC)的表面清洗。

表面改性(润湿性和附着力的改善

表面氧化(薄氧化层沉积)

光阻剂的灰化、剥离和除尘。

清除有机污染物

紫外线固化

塑料包装和引线框架的表面清洁。

复合半导体(GaN、SiC、GaAs和InP)的表面清洗。

表面改性(润湿性和附着力的改善

表面氧化(薄氧化层沉积)

光阻剂的灰化、剥离和除尘。

清除有机污染物

紫外线固化

塑料包装和引线框架的表面清洁

复合半导体(GaN、SiC、GaAs和InP)的表面清洗

表面改性(润湿性和附着力的改善

表面氧化(薄氧化层沉积)

光阻剂的灰化、剥离和除尘

清除有机污染物

紫外线固化


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